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產(chǎn)品&服務(wù)

Products & services

• 勻膠顯影機(jī)

  12英寸勻膠顯影機(jī) ACD12

  8英寸勻膠顯影機(jī) ACD8

  6英寸勻膠顯影機(jī) ACD6

  6英寸勻膠顯影機(jī) ACD6 S

• 去膠剝離機(jī)
• 單片清洗機(jī)
• 噴膠機(jī)
• 單片濕法刻蝕機(jī)
• 晶圓搬運(yùn)顯微鏡

• 

單片化學(xué)清洗機(jī) ACL系列

CHEMICAL CLEANING MACHINE

• 詳細(xì)描述

設(shè)備配置  2-8 chambers(可選)
襯底材質(zhì)  Si、SiC、LN、LT
適用工藝  襯底及外延清洗、PR strip、Oxide、removal等
工藝指標(biāo)  顆粒控制(≤10ea@01µm)、金屬離子控制(5E9 atms/cm2)
應(yīng)用領(lǐng)域  IC、功率、射頻、半導(dǎo)體光學(xué)、光通訊、科研、光罩等
設(shè)備尺寸  2-4腔2560*2426*2863(W*D*H)、8腔5252*24122959(W*D*H)
技術(shù)特征：

· 機(jī)臺(tái)可實(shí)現(xiàn)多尺寸兼容；

· 多層cup結(jié)構(gòu)可實(shí)現(xiàn)藥液分離；

集成智能化的Auto Clean功能，可滿足高溫SPM工藝需求并降低PM頻率；